據(jù)消息，日本經(jīng)產(chǎn)省已決定建立新制度，為向半導(dǎo)體工廠供應(yīng)工業(yè)用水的設(shè)施建設(shè)提供補貼，補貼對象包括凈水廠和管道等。在日本政府推動發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)鏈、吸引企業(yè)建廠的背景下，上述行動旨在確保半導(dǎo)體生產(chǎn)所需的工業(yè)用水。

　　報道稱，隨著日本政府為了加強半導(dǎo)體供應(yīng)鏈而推動生產(chǎn)基地的建設(shè)，日本各地建立和擴大半導(dǎo)體相關(guān)生產(chǎn)基地的舉措不斷涌現(xiàn)。但半導(dǎo)體在清洗等過程中使用大量的水，確保工業(yè)用水是一個問題。

　　其中，臺積電計劃與索尼等在熊本縣共同建設(shè)的工廠目前計劃使用地下水。雖然臺積電也在考慮建設(shè)第二家工廠，但當(dāng)?shù)鼐用駬?dān)心對地下水的影響，熊本縣正在考慮建設(shè)工業(yè)用水所需的設(shè)施。

　　因此，日本經(jīng)產(chǎn)省制定了新的制度，為工業(yè)用水所需的凈水廠和水管等設(shè)施的建設(shè)提供補貼。此后其還將考慮具體制度，例如支持通過向民間企業(yè)委托管理來提高企業(yè)的管理效率。

　　據(jù)悉，日本政府上個月重新修訂芯片策略，目標(biāo)是在2030年前，讓國內(nèi)制半導(dǎo)體銷售額增加兩倍至超過15萬億日元(1080億美元)，此舉凸顯出芯片在日本經(jīng)濟安全政策占有核心地位。